光學平臺產品及廠家
3噸帶打印平臺秤 3t帶rs232接口電子磅秤?技術參數(shù)：準 確 度：符合jjg539-97中三級要求 使用電源：ac187～242v；49～
更新時間:2025-10-20
5噸1*1米不銹鋼小地磅 5t防水電子平臺秤?想買質量好的地磅就買上海漢衡的，為什么要選擇上海漢衡呢？因為我們無論是從工藝還是材質方面都優(yōu)于其他廠家，凡是購買我司地磅的客戶，我們的技術員會免費安裝并培
更新時間:2025-10-20
3噸打印小票電子地磅 3000kg雙層平臺秤?廣泛應用于倉庫、化工車間、貨場、藥廠、食品加工廠、水產集貿市場，工地等場所放貨物稱量, 可根據(jù)客戶要求訂制尺寸可根據(jù)需求定制。產品功能：1.秤臺由秤體和框
更新時間:2025-10-20
1.2*1.5米不銹鋼小地磅 10噸防水電子平臺秤?想買質量好的地磅就買上海漢衡的，為什么要選擇上海漢衡呢？因為我們無論是從工藝還是材質方面都優(yōu)于其他廠家，凡是購買我司地磅的客戶，我們的技術員會免費安
更新時間:2025-10-20
工地揚塵監(jiān)管平臺 遠程實時查看數(shù)據(jù) 1.顆粒物監(jiān)測單元：pm2.5、pm10傳感器 揚塵監(jiān)測系統(tǒng)使用激光散射法測量揚塵濃度。 2.氣象監(jiān)測單元：溫濕度傳感器、風速傳感器、風向傳感器 揚塵監(jiān)
更新時間:2025-10-15
企業(yè)煤礦環(huán)境微型空氣站數(shù)據(jù)聯(lián)網監(jiān)管平臺 產品簡介空氣質量微型站可實現(xiàn)區(qū)域空氣質量的在線自動監(jiān)測，能全天候、連續(xù)、自動地實時監(jiān)測大氣環(huán)境中常見的指數(shù)（tvoc、一氧化碳、二氧化硫、二氧化氮、臭氧、pm2
更新時間:2025-10-15
產品特點：1.臺面材料采用健康型天然大理石平臺代替原有的鋼結構平臺，其明顯優(yōu)點是平面度好、質量大、穩(wěn)定性好、耐腐蝕性強2.內置精密空氣彈簧隔振系統(tǒng)，具備優(yōu)異的隔振性能，自動調節(jié)水平功能3.該產品適用于平面度要求高的實驗
更新時間:2025-10-15
內部蜂窩狀芯板采用的是不銹鋼、鋁板，鍍鋅板等防腐材料，內芯密度為250kg/m3；采用國內最新的粘接工藝，顛覆了傳統(tǒng)的焊接工藝，無焊接應力；質量輕，強度高，穩(wěn)定性好。
更新時間:2025-10-15
光學平臺廣泛應用于光學，電子，精密機械制造，冶金，航天，航空，航海，精密化工和無損檢測等領域，以及其他機械行業(yè)的精密試驗儀器，設備振動隔離的關鍵裝置中。
更新時間:2025-10-15
本公司制造的精密光學平臺，組合精密橡膠阻尼隔震墊,和水平調節(jié)軸承，具有較好隔振效果。適合于現(xiàn)代光學、物理力學、激光電子、光通訊試驗及儀器搭載等領域應用。
更新時間:2025-10-15
自動平衡精密隔振光學平臺cbdt型特點：隔振支撐采用超薄復合材料氣囊、自定心準無摩擦球頭擺桿和帶附加擴散口的多小孔準層流阻尼技術，隔振性能良好。自動水平，自動充氣，全部氣動執(zhí)行元件采用德國fest0產品，靜音空氣壓縮機氣源、噪聲低。
更新時間:2025-10-14
gb8050led防爆燈30w-gb8050led防爆平臺燈50w適用于化工廠房、倉庫、鍋爐房、儲存間、罐區(qū)、鋼廠等車間或廠房作固定照明
更新時間:2025-10-13
微光綜合測試儀是種精密的光學檢測設備。適用于各種視場和潛望高度的微光夜視儀，該儀器可以完成對各種微光夜視儀器的大部或全部光學性能的測試。
更新時間:2025-10-13
光具座是種通用性強，用途廣泛的光學測試儀器，它主要應用于照相物鏡系統(tǒng)、望遠系統(tǒng)及各類光學零件等光學幾何參數(shù)的測量及其成像質量的評定，還可以應用于對棱鏡的角度進行測量。儀器帶有多種附件，適用于光學零件及光學儀器生產過程的質量檢驗及科研教學中使用。
更新時間:2025-10-13
光學透鏡采用磁吸式，可以吸附在鐵板上，中間圓盤可以通過后面的旋鈕360度旋轉，五線光源采用5個開關控制，線條可任意使用。尺寸：35*12*30cm
更新時間:2025-10-13
玻璃去油墨設備,采用訂制紫外納激光器對玻璃表面進行去油墨以及油墨微加工， 將產品損傷降至低。
更新時間:2025-10-11
oai 800型光學正面和背面光刻機系統(tǒng), 是半自動,four-camera、光學正面和背面光刻機。它提供其精確的(1碌m - 2 m碌)對準精度,旨在大大超過任何紅外背后對準器性能的一個非常有競爭力的價格。通用模型800光刻機是理想的用于低產量、研發(fā)實驗室和大學。
更新時間:2025-10-11
瑞士nanofrazor 3d納米結構高速直寫機，源于發(fā)明stm和afm的ibm蘇黎世研發(fā)中心，是其在納米加工技術的新研究成果。nanofrazor納米3d結構直寫機第 一次將納米尺度下的3d結構直寫工藝快速化、穩(wěn)定化。
更新時間:2025-10-11
nanoarch科研3d打印機m160 ，本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動化的多材料送料系統(tǒng)，兼顧高精度和多材料打印，可支持同時打印4種樹脂基復合材料進行層間或層內多材料3d打印，適用于基礎理論驗證及原理創(chuàng)新研究，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創(chuàng)新。其主要應用在點陣結構材料、功能梯度材料、超材料、復合材料、復雜微流控，多材料4d打印等方面。
更新時間:2025-10-11
nanoarch微納3d打印機 p130/s130 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創(chuàng)新。
更新時間:2025-10-11
nanoarch 3d打印機p140/s140 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創(chuàng)新。
更新時間:2025-10-11
理音rion kz-30uk采樣器，易于操作的室內化學采樣器，當腔體壓力過高的時候， 可以排凈空氣，防止發(fā)生故障 ，設計簡單的化學防爆采樣器，kz-30uk的設計是可以為 離線測試的液體粒子計數(shù)器提供加壓。
更新時間:2025-10-11
美nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)：nte-4000 獨立式電子束蒸鍍，nte-3500 緊湊型獨立式熱蒸鍍，nte-3000 雙蒸源臺式熱蒸鍍系統(tǒng)，nte-1000 簡便型熱蒸鍍。熱蒸鍍系統(tǒng)可以跟nano-master那諾-馬斯特的其它任意真空系統(tǒng)組成雙系統(tǒng)。
更新時間:2025-10-11
美nano-master磁控濺射系統(tǒng)：nsc-4000獨立式磁控濺射系統(tǒng)，可支持共濺射等能力的擴展nsc-3500緊湊型獨立式熱蒸鍍，可以支持金屬材料的dc濺射，介質材料的rf濺射，以及脈沖dc濺射等應用。nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射nsc-1000單金靶靶材的臺式濺射系統(tǒng)，不但可用于電鏡制備，也可以用于常規(guī)的金屬濺射
更新時間:2025-10-11
nano-master的等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)pecvd系統(tǒng)npe-4000,可以制造高質量的氧化硅、氮化硅、碳納米管、金剛石和碳化硅等薄膜；蹇梢匀菁{8英寸晶圓，可通過射頻、脈沖直流或者直流電源提供偏壓，可通過熱電阻或者紅外燈加熱到800°c。ns
更新時間:2025-10-11
nano-master電子束蒸鍍系統(tǒng) nee-4000，可通過樣片掩膜實現(xiàn)組合蒸鍍，并可通過電腦控制單個電子束蒸鍍的蒸鍍速率。系統(tǒng)可支持共蒸鍍功能。能夠升支持自動上下片，以及手動或自動翻轉樣片實現(xiàn)雙面鍍膜。該系列的e-beam電子束蒸鍍系統(tǒng)，也可以跟磁控濺射
更新時間:2025-10-11
ibm離子銑/ibe離子束刻蝕系統(tǒng)：nie-4000 獨立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nie-3500 緊湊型獨立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nir-4000 獨立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射
更新時間:2025-10-11
nano-master等離子清洗和灰化系統(tǒng)設計用于廣泛的需求，從批處理和單晶圓的光刻膠剝離到晶圓表面改性都可以涵蓋。這些系統(tǒng)通過計算機控制，可以配套不同的等離子源，加熱和不加熱的基片夾具，以及獨一無二的從等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式的能力。$r
更新時間:2025-10-11
美nano-master ald/peald原子層沉積：nld-4000 獨立式ald系統(tǒng)nld-3500 緊湊型獨立式ald系統(tǒng)nld-3000 臺式ald系統(tǒng)
更新時間:2025-10-11
美nano-master rie反應離子刻蝕系統(tǒng)nrr-4000 獨立式雙rie或icp刻蝕系統(tǒng)nre-4000 獨立式rie或icp系統(tǒng)nre-3000 臺式rie系統(tǒng)ndr-4000 深硅刻蝕系統(tǒng)
更新時間:2025-10-11
美nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng) ndt-4000,是一款器件測試系統(tǒng)，俗稱“熱真空系統(tǒng)”,可以用于真空和可控的均勻加熱以及冷卻循環(huán)條件下的器件或樣片測試。
更新時間:2025-10-11
美nano-master rtp快速退火爐nrt-3500 緊湊型獨立式全自動rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨立式全自動rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨立式大批量rtp系統(tǒng)nir-4000 獨立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射
更新時間:2025-10-11
美nano-master swc單晶圓清洗系統(tǒng)swc-3000 臺式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-4000 立柜式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-5000 帶25片cassette 機械手自動清洗nrt-4000 獨
更新時間:2025-10-11
美nano-master 大基片清洗機 large substrate cleaning :lsc-4000 是一款獨立式清洗機，使用計算機控制，大可支持外徑21”的基片。
更新時間:2025-10-11
韓國ecopia 全自動變溫霍爾效應測試儀 hms-5300lth,溫度范圍：80k-573k,測量材料si, sige, sic, gaas, ingaas, inp, gan, tco(including ito),alzno, fecdte, zno 等所有半導體薄膜(p 型和 n 型)；
更新時間:2025-10-11
英國quorum q150t plus 鍍金鍍碳一體機，是一款優(yōu)化設計的帶渦輪分子泵抽真空的鍍膜設備，真空度可達5x10-5mbar？梢詾R射具有超細成膜顆粒的易氧化金屬，適用于高分辨率成像。同樣地，低散射可得到均勻而致密的無定形碳膜。
更新時間:2025-10-11
suss蘇斯/休斯，evg, oai等系列光刻機用曝光燈hbo系列，suss蘇斯，evg, oai公司生產的半導體和太陽能行業(yè)用光刻機，目得到業(yè)界的廣泛認同，該系列光刻機曝光系統(tǒng)的曝光燈，主要是由德國歐司朗及日本牛尾公司生產的曝光燈進行配套供應。歐司朗/牛尾曝光燈系列，具備良好的光通量，穩(wěn)定的光強度以及優(yōu)質的品質受到業(yè)界的青睞。
更新時間:2025-10-11
adlema先進的檢漏機bt4000技 術 規(guī) 格• 尺 寸 :270x200x300mm• 重 量 :8kg• 電 源 輸 入 :24 vdc• 管 徑 :4x2, 6x4, 8x6, 10x8
更新時間:2025-10-11
美國kla insem ht原位高溫納米力學測試系統(tǒng)，納米壓痕儀，樣品加溫可達800 ℃，樣品尺寸可達10mm，裝樣系統(tǒng)與真空環(huán)境兼容
更新時間:2025-10-11
德國yxlon多用途高分辨率ct系統(tǒng)ff35 ct,微焦點、納米焦點雙射線 源配置，大限度提高多 功能性 • 單或雙射線源配置，可大限度提高 ct 應用 多功能性
更新時間:2025-10-11
jbx-8100fs 圓形電子束光刻系統(tǒng)· 最新高精密jbx-8100fs圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過全方位的設計優(yōu)化，實現(xiàn)更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
更新時間:2025-10-11
nanoarch p130是科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創(chuàng)新。
更新時間:2025-10-11
the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
更新時間:2025-10-11
30型uv光源是高效的，可用于各種應用。光由橢圓形反射器收集并聚焦在積分/聚光透鏡陣列上，以在曝光平面產生均勻的照明。這種紫外光源提供多種光束尺寸，最大24英寸平方，輸出光譜范圍從220 nm到450 nm，使用適當?shù)臒簦òǎ。輸出功率范圍?00瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配備快速更換過濾器組件，使用戶能夠輕松定制輸出光譜？蛇x配遠程排氣風扇。
更新時間:2025-10-11
oai 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準器，采用經過行業(yè)驗證的組件，使oai成為光刻設備行業(yè)的導者。 200型是臺式面罩對準器，需要小的潔凈室空間。它為研發(fā)，或有限規(guī)模，試點生產提供了經濟的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空吸盤調平系統(tǒng)，襯底快速平穩(wěn)地平整，用于平行光掩模對準和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)能夠實現(xiàn)一微米分辨率和對準精度。
更新時間:2025-10-11
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