光學(xué)平臺產(chǎn)品及廠家
1. 系統(tǒng)方案ansys高精度自動駕駛仿真驗證平臺提供了基于物理的三維場景建模、基于語義的道路事件建模、基于物理光學(xué)屬性的攝像頭和激光雷達(dá)的仿真、基于物理電磁學(xué)屬性的毫米波雷達(dá)的仿真，從而實現(xiàn)多傳感器
更新時間:2025-12-10
津發(fā)公司自豪地給大家介紹ergolab人機(jī)環(huán)境同步平臺。人機(jī)環(huán)境同步平臺是由津發(fā)公司安全獨立自主開發(fā)的系統(tǒng)，是一個專業(yè)用于收集、分析和演示人因工程、安全人機(jī)工程研究中人機(jī)環(huán)境數(shù)據(jù)采集且操作簡便的多元數(shù)據(jù)同步分析平臺。該系統(tǒng)與許多人因工程學(xué)、
更新時間:2025-12-10
ergolab人機(jī)環(huán)境同步云平臺，是集科學(xué)化、集成化、智能化于一體的系統(tǒng)工程工具與解決方案產(chǎn)品，可以與人、機(jī)器、環(huán)境數(shù)據(jù)進(jìn)行同步采集與綜合人機(jī)工效分析；尤其是人工智能時代根據(jù)人-信息-物理系統(tǒng)（hcps）理論，對人-機(jī)-環(huán)境系統(tǒng)從人-信息系
更新時間:2025-12-10
ergolab interaction交互行為分析平臺一、產(chǎn)品簡介ergolab interaction交互行為分析平臺，是津發(fā)科技依據(jù)“人因工程與工效學(xué)”和“人-信息-物理系統(tǒng)”理論自主研發(fā)的、面向產(chǎn)品及原型的多模態(tài)主客觀交互行為測評與分
更新時間:2025-12-10
ergolab虛擬仿真教學(xué)實訓(xùn)平臺一、平臺簡介ergolab虛擬仿真教學(xué)實訓(xùn)平臺由ergolab人因測試子平臺、ergolab人因數(shù)據(jù)分析子平臺、ergolab人因心理試驗臺等部分組成。平臺融合了認(rèn)知與心理測試、生理測量等人因研究技術(shù)，能夠
更新時間:2025-12-10
ergolab組合式智能可穿戴生理測量平臺一、平臺概述ergolab組合式智能可穿戴生理測量平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司自主研發(fā)的可穿戴便攜式生理信號記錄工具，適用于多種實驗環(huán)境。平臺采用多傳感器融合技術(shù)及算法，單個傳感器能夠采集多通道生
更新時間:2025-12-10
psylab心理評估云平臺系統(tǒng)一、系統(tǒng)簡介psylab心理評估云平臺系統(tǒng)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進(jìn)行主觀施測，包括問卷、量表以及行為
更新時間:2025-12-10
psylab人因測試與評估云平臺一、系統(tǒng)簡介psylab人因測試與評估云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進(jìn)行主觀施測，包括問卷、量表以及
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psylab智能人因測試云平臺一、系統(tǒng)簡介psylab智能人因測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進(jìn)行主觀施測，包括問卷、量表以及行為
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psylab心理測試云平臺一、系統(tǒng)簡介psylab心理測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進(jìn)行主觀施測，包括問卷、量表以及行為實驗范式
更新時間:2025-12-10
ergolab虛擬仿真教學(xué)實驗平臺一、平臺簡介ergolab虛擬仿真教學(xué)實驗平臺由ergolab人因測試子平臺、ergolab人因數(shù)據(jù)分析子平臺、ergolab人因心理試驗臺等部分組成。平臺融合了認(rèn)知與心理測試、生理測量等人因研究技術(shù)，能夠
更新時間:2025-12-10
psylab人因測試云平臺一、系統(tǒng)簡介人因測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進(jìn)行主觀施測，包括問卷、量表以及行為實驗范式的施測。系統(tǒng)
更新時間:2025-12-10
hysitron ti 980 納米壓痕儀bruker hysitron ti 980 triboindenter 加速納米力學(xué)研究進(jìn)入更高階段,同時具有高的性能、靈活性、可信度、實用性和速度；诤Ｋ紕(chuàng)幾十年的技術(shù)創(chuàng)新，它為納米力學(xué)表征帶來了高水平的性能、功能和易用性。ti 980達(dá)到了臺優(yōu)異納米力學(xué)測試儀
更新時間:2025-12-10
echo pro 全自動超聲波掃描顯微鏡美 sonix 全自動超聲波掃描顯微鏡echo pro , 批量 tray盤和框架直接掃瞄, 編程自動判別缺陷, 高產(chǎn)量,無需人員重復(fù)設(shè)置, 自動烘干.
更新時間:2025-12-10
日本elionix 微細(xì)加式電子束曝光電子束直寫機(jī)els-f125，是elionix推出的上臺加速電壓達(dá)125kv的電子束曝光系統(tǒng)，其可加工線寬下限為5nm的精細(xì)圖形。
更新時間:2025-12-10
日本elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng) els-f150, 是上第 個150千伏電子束光刻系統(tǒng)。支持單位納米用于高研究的設(shè)備制造。
更新時間:2025-12-10
octoplus 500 mbe系統(tǒng)是為了在6英寸襯底上生長高質(zhì)量的iii/v族或者ii-vi族異質(zhì)結(jié)構(gòu)材料而研發(fā)業(yè)分子束外延系統(tǒng)。樣品臺選用熱解石墨加熱或者鎢、鉭加熱絲。標(biāo)準(zhǔn)的octoplus 500有11個呈放射狀分布的源孔，可以根據(jù)需要增選3個源孔。
更新時間:2025-12-10
德國leica em txp全新精研一體機(jī)，是一款獨特的可對目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行精確定位的表面處理工具，特別適合于sem，tem及l(fā)m觀察之對樣品進(jìn)行切割、拋光等系列處理。它尤其適合于制備高難度樣品，如需要對目標(biāo)精細(xì)定位或需對肉眼難以觀察的微小目標(biāo)進(jìn)行定點處理。
更新時間:2025-12-10
keyence 基恩士 形狀測量激光顯微系統(tǒng)全新 vk-x3000，納米 / 微米 / 毫米，一臺即可完成測量。292 種分析工具，一臺即可了解希望獲取的信息。一臺即包含了光學(xué)顯微鏡，臺階儀，光學(xué)輪廓儀，及電鏡功能。
更新時間:2025-12-10
日本電子 jsm-7610fplus，用于納米科學(xué)的肖特基場發(fā)射掃描電子顯微鏡， 是款采用半浸沒式物鏡、擁有超高分辨率的場發(fā)射掃描電子顯heidelberg 海德堡 μmla桌面無掩模光刻機(jī)
更新時間:2025-12-10
dwl 66+激光光刻系統(tǒng)是具經(jīng)濟(jì)效益的高分辨率圖像產(chǎn)生器, 具有多種直寫模塊，實現(xiàn)不同精度直寫需求, 能于結(jié)構(gòu)上進(jìn)行灰度曝光
更新時間:2025-12-10
德國海德堡 heidelberg 激光直寫光刻機(jī) mla150,德國高精密激光直寫繪圖機(jī),非接觸式曝光,可支持高效數(shù)位光刻與灰度光刻.
更新時間:2025-12-10
英國nanobean nb5 電子束光刻機(jī),具有良好的穩(wěn)定性，平均正常運行時間超過93%.
更新時間:2025-12-10
瑞典 mycronic 掩膜版光刻機(jī) fps6100，用于制作高精度掩膜版，廣泛用于半導(dǎo)體，tft-lcd，微電子等行業(yè)。
更新時間:2025-12-10
系統(tǒng)中集成了高精度的激光干涉工作臺，運動行程為50 x 50 x 25mm，xy方向定位精度為2nm，可以實現(xiàn)精確的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。
更新時間:2025-12-10
ebpg5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟ebpg5200一樣的通用光刻平臺設(shè)計，對電子束直寫應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
更新時間:2025-12-10
德國raith voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機(jī),系統(tǒng)可實現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關(guān)鍵的指標(biāo)，可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實驗室環(huán)境下，仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統(tǒng)對外界環(huán)境的容忍度。
更新時間:2025-12-10
英國hhv auto500 gb 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)，是門設(shè)計用于手套箱集成使用的鍍膜設(shè)備，滿足氧氣或水汽敏感的材料鍍膜的應(yīng)用要求。該系統(tǒng)配了一個特殊結(jié)構(gòu)的真空腔室，可直接與市場上大多數(shù)手套箱集成到一起。真空腔室的門可豎直滑動開關(guān)，嵌入手套箱內(nèi)，并占用很少的手套箱空間；其后門是鉸鏈扇式開關(guān)，能在不影響手套箱內(nèi)氣氛的情況下輕松維護(hù)腔室內(nèi)工藝組件。
更新時間:2025-12-10
100s接觸角測量儀是采用光學(xué)成像的原理，通過圖像輪廓分析方式測量樣品表面接觸角、潤濕性能、表界面張力、表面能等性能，設(shè)備性價比高、功能全面、可滿足各種常規(guī)測量需要。
更新時間:2025-12-10
德國kruss標(biāo)準(zhǔn)型dsa25接觸角測量儀，接觸角測量范圍：0-180，接觸角測量精度：±0.10，表界面張力測量范圍：0-1000mn/m；測量精度：0.01 mn/m
更新時間:2025-12-10
ure-2000b 型紫外單面光刻機(jī)，曝光面積：100mmx100mm，分辨力：0.8μm（膠厚 2μm 的正膠）
更新時間:2025-12-10
ure-2000/600 紫外單面光刻機(jī)，光束口徑： 650mm×650mm，對準(zhǔn)精度： ±1.5μm
更新時間:2025-12-10
ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機(jī)，采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768，采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時間:2025-12-10
ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機(jī),采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像，分辨力 1um。
更新時間:2025-12-10
ure-2000/35a 型紫外單面光刻機(jī),,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，全自動）和高校教學(xué)科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進(jìn)口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非常可靠，自動化程度很高，操作十分方便。
更新時間:2025-12-10
ure-2000/35 型紫外單面光刻機(jī),非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動化程度高）和高校教學(xué)科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進(jìn)口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非？煽，自動化程度很高，操作十分方便。
更新時間:2025-12-10
ure-2000/35l 型紫外單面光刻機(jī),曝光面積：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（膠厚 2.0 μm 的正膠，365nm 波長）
更新時間:2025-12-10
ure-2000/17 型紫外單面光刻機(jī)（臺式）,曝光面積：4 英寸,分辨力：1.5μm（膠厚 2 m 的正膠）,對準(zhǔn)精度：±1μm
更新時間:2025-12-10
ure-2000/25 型紫外單面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸,分辨力：1 μm（膠厚 2 μm的正膠）,對準(zhǔn)精度：± 0.8μm
更新時間:2025-12-10
ure-2000s/25 型紫外雙面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸，正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2025-12-10
ure-2000s/b 型紫外雙面光刻機(jī),曝光面積：6 英寸，對準(zhǔn)精度：± 2μm （雙面,片厚 0.8mm），± 0.8μm （單面）
更新時間:2025-12-10
ure-2000s/a8 型紫外雙面光刻機(jī), 曝光面積：8 英寸, 曝光波長：365nm： 15mw/cm，405nm：15-30mw/cm2, 對準(zhǔn)精度：±2 μm （雙面,片厚 0.8mm）±0.8 μm （單面）
更新時間:2025-12-10
ure-2000s/25s 型雙面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸（或 6 英寸），正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2025-12-10
ure-2000s/35l（a）型紫外雙面光刻機(jī)，曝光面積：6 英寸，正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2025-12-10
ure-2000s/35l（b）型雙面光刻機(jī), 曝光面積：4 英寸, 正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué) 大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2025-12-10
ure-2000/30 型紫外單面光刻機(jī),高倍率雙目雙視場顯微鏡和 22 英寸寬屏液晶顯示同時觀察對準(zhǔn)過程，并提供 usb 輸出；既滿足高精度對準(zhǔn)，又可用于檢測曝光結(jié)果，且曝光結(jié)果和方便存儲
更新時間:2025-12-10
最新產(chǎn)品
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