光學平臺產(chǎn)品及廠家

解決方案解決方案ErgoLABInteraction交互行為分析平臺

ergolab interaction交互行為分析平臺一、產(chǎn)品簡介ergolab interaction交互行為分析平臺，是津發(fā)科技依據(jù)“人因工程與工效學”和“人-信息-物理系統(tǒng)”理論自主研發(fā)的、面向產(chǎn)品及原型的多模態(tài)主客觀交互行為測評與分

更新時間:2025-12-10

該公司產(chǎn)品分類：北京津發(fā)科技股份有限公司

解決方案解決方案ErgoLAB虛擬仿真教學實訓平臺

ergolab虛擬仿真教學實訓平臺一、平臺簡介ergolab虛擬仿真教學實訓平臺由ergolab人因測試子平臺、ergolab人因數(shù)據(jù)分析子平臺、ergolab人因心理試驗臺等部分組成。平臺融合了認知與心理測試、生理測量等人因研究技術(shù)，能夠

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解決方案解決方案ErgoLAB組合式智能可穿戴生理測量平臺

ergolab組合式智能可穿戴生理測量平臺一、平臺概述ergolab組合式智能可穿戴生理測量平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司自主研發(fā)的可穿戴便攜式生理信號記錄工具，適用于多種實驗環(huán)境。平臺采用多傳感器融合技術(shù)及算法，單個傳感器能夠采集多通道生

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解決方案解決方案PsyLAB心理評估云平臺系統(tǒng)

psylab心理評估云平臺系統(tǒng)一、系統(tǒng)簡介psylab心理評估云平臺系統(tǒng)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及行為

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解決方案解決方案PsyLAB人因測試與評估云平臺

psylab人因測試與評估云平臺一、系統(tǒng)簡介psylab人因測試與評估云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及

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解決方案解決方案PsyLAB智能人因測試云平臺

psylab智能人因測試云平臺一、系統(tǒng)簡介psylab智能人因測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及行為

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解決方案解決方案PsyLAB心理測試云平臺

psylab心理測試云平臺一、系統(tǒng)簡介psylab心理測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及行為實驗范式

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ErgoLAB虛擬仿真教學實驗平臺

ergolab虛擬仿真教學實驗平臺一、平臺簡介ergolab虛擬仿真教學實驗平臺由ergolab人因測試子平臺、ergolab人因數(shù)據(jù)分析子平臺、ergolab人因心理試驗臺等部分組成。平臺融合了認知與心理測試、生理測量等人因研究技術(shù)，能夠

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PsyLAB人因測試云平臺

psylab人因測試云平臺一、系統(tǒng)簡介人因測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及行為實驗范式的施測。系統(tǒng)

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Hysitron TI 980 TriboIndenter納米壓痕儀

hysitron ti 980 納米壓痕儀bruker hysitron ti 980 triboindenter 加速納米力學研究進入更高階段,同時具有高的性能、靈活性、可信度、實用性和速度�；诤Ｋ紕�(chuàng)幾十年的技術(shù)創(chuàng)新，它為納米力學表征帶來了高水平的性能、功能和易用性。ti 980達到了臺優(yōu)異納米力學測試儀

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Hysitron TI 980 TriboIndenter全自動超聲波掃描顯微鏡

echo pro 全自動超聲波掃描顯微鏡美 sonix 全自動超聲波掃描顯微鏡echo pro , 批量 tray盤和框架直接掃瞄, 編程自動判別缺陷, 高產(chǎn)量,無需人員重復設置, 自動烘干.

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ELS-F125日本Elionix微細加式電子束曝光電子束直寫機

日本elionix 微細加式電子束曝光電子束直寫機els-f125，是elionix推出的上臺加速電壓達125kv的電子束曝光系統(tǒng)，其可加工線寬下限為5nm的精細圖形。

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ELS-F150日本Elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng)

日本elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng) els-f150, 是上第個150千伏電子束光刻系統(tǒng)。支持單位納米用于高研究的設備制造。

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OCTOPLUS 500德國MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)

octoplus 500 mbe系統(tǒng)是為了在6英寸襯底上生長高質(zhì)量的iii/v族或者ii-vi族異質(zhì)結(jié)構(gòu)材料而研發(fā)業(yè)分子束外延系統(tǒng)。樣品臺選用熱解石墨加熱或者鎢、鉭加熱絲。標準的octoplus 500有11個呈放射狀分布的源孔，可以根據(jù)需要增選3個源孔。

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EM TXP德國Leica 全新精研一體機

德國leica em txp全新精研一體機，是一款獨特的可對目標區(qū)域進行精確定位的表面處理工具，特別適合于sem，tem及l(fā)m觀察之對樣品進行切割、拋光等系列處理。它尤其適合于制備高難度樣品，如需要對目標精細定位或需對肉眼難以觀察的微小目標進行定點處理。

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VK-X3000基恩士KEYENCE形狀測量激光顯微系統(tǒng)

keyence 基恩士形狀測量激光顯微系統(tǒng)全新 vk-x3000，納米 / 微米 / 毫米，一臺即可完成測量。292 種分析工具，一臺即可了解希望獲取的信息。一臺即包含了光學顯微鏡，臺階儀，光學輪廓儀，及電鏡功能。

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ELS-BODEN日本Elionix電子束光刻機

els-boden 新型電子束光刻系統(tǒng),高速掃描400mhz頻率生產(chǎn)

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μMLA海德堡桌面無掩模光刻機

日本電子 jsm-7610fplus，用于納米科學的肖特基場發(fā)射掃描電子顯微鏡，是款采用半浸沒式物鏡、擁有超高分辨率的場發(fā)射掃描電子顯heidelberg 海德堡 μmla桌面無掩模光刻機

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DWL 66+德國海德堡激光直寫光刻機

dwl 66+激光光刻系統(tǒng)是具經(jīng)濟效益的高分辨率圖像產(chǎn)生器, 具有多種直寫模塊，實現(xiàn)不同精度直寫需求, 能于結(jié)構(gòu)上進行灰度曝光

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MLA150德國海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機

德國海德堡 heidelberg 激光直寫光刻機 mla150,德國高精密激光直寫繪圖機,非接觸式曝光,可支持高效數(shù)位光刻與灰度光刻.

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Photonic Professional GT2英國Nanobean 電子束光刻機

英國nanobean nb5 電子束光刻機,具有良好的穩(wěn)定性，平均正常運行時間超過93%.

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FPS6100瑞典 Mycronic 掩膜版光刻機

瑞典 mycronic 掩膜版光刻機 fps6100，用于制作高精度掩膜版，廣泛用于半導體，tft-lcd，微電子等行業(yè)。

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Prexision-800.瑞典 Mycronic 光刻機

主要優(yōu)勢提高分辨率 25%更佳的貼片性能 70%更快的寫入速度20%

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Pioneer Two德Raith 電子束光刻機

系統(tǒng)中集成了高精度的激光干涉工作臺，運動行程為50 x 50 x 25mm，xy方向定位精度為2nm，可以實現(xiàn)精確的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。

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EBPG5150德國Raith 電子束光刻機

ebpg5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟ebpg5200一樣的通用光刻平臺設計，對電子束直寫應用進行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。

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德國Raith Voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機

德國raith voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機,系統(tǒng)可實現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關鍵的指標，可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實驗室環(huán)境下，仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統(tǒng)對外界環(huán)境的容忍度。

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Auto500 GB英國HHV 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)

英國hhv auto500 gb 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)，是門設計用于手套箱集成使用的鍍膜設備，滿足氧氣或水汽敏感的材料鍍膜的應用要求。該系統(tǒng)配了一個特殊結(jié)構(gòu)的真空腔室，可直接與市場上大多數(shù)手套箱集成到一起。真空腔室的門可豎直滑動開關，嵌入手套箱內(nèi)，并占用很少的手套箱空間；其后門是鉸鏈扇式開關，能在不影響手套箱內(nèi)氣氛的情況下輕松維護腔室內(nèi)工藝組件。

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100S接觸角測量儀

100s接觸角測量儀是采用光學成像的原理，通過圖像輪廓分析方式測量樣品表面接觸角、潤濕性能、表界面張力、表面能等性能，設備性價比高、功能全面、可滿足各種常規(guī)測量需要。

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100S德國KRUSS標準型DSA25接觸角測量儀

德國kruss標準型dsa25接觸角測量儀，接觸角測量范圍：0-180，接觸角測量精度：±0.10，表界面張力測量范圍：0-1000mn/m；測量精度：0.01 mn/m

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URE-2000B 型紫外單面光刻機

ure-2000b 型紫外單面光刻機，曝光面積：100mmx100mm，分辨力：0.8μm（膠厚 2μm 的正膠）

更新時間:2025-12-10

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URE-2000/600 紫外單面光刻機

ure-2000/600 紫外單面光刻機，光束口徑： 650mm×650mm，對準精度： ±1.5μm

更新時間:2025-12-10

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DS-2000/14K無掩膜單面光刻機

ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機，采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768，采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。

更新時間:2025-12-10

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

DS-2000/14G型無掩模單面光刻機

ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機,采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像，分辨力 1um。

更新時間:2025-12-10

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

URE-2000/35A紫外單面光刻機

ure-2000/35a 型紫外單面光刻機,,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，全自動）和高校教學科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設備外形美觀精制，性能非�？煽浚詣踊潭群芨�，操作十分方便。

更新時間:2025-12-10

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

URE-2000/35紫外單面光刻機

ure-2000/35 型紫外單面光刻機,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動化程度高）和高校教學科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設備外形美觀精制，性能非�？煽�，自動化程度很高，操作十分方便。

更新時間:2025-12-10

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司