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光學(xué)平臺(tái)產(chǎn)品及廠家
ELS-F125日本Elionix微細(xì)加式電子束曝光電子束直寫機(jī)
日本elionix 微細(xì)加式電子束曝光電子束直寫機(jī)els-f125,是elionix推出的上臺(tái)加速電壓達(dá)125kv的電子束曝光系統(tǒng),其可加工線寬下限為5nm的精細(xì)圖形。
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
ELS-F150日本Elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng)
日本elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng) els-f150, 是上第 個(gè)150千伏電子束光刻系統(tǒng)。支持單位納米用于高研究的設(shè)備制造。
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
ELS-BODEN日本Elionix電子束光刻機(jī)
els-boden 新型電子束光刻系統(tǒng),高速掃描400mhz頻率生產(chǎn)
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
μMLA海德堡桌面無(wú)掩模光刻機(jī)
日本電子 jsm-7610fplus,用于納米科學(xué)的肖特基場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡, 是款采用半浸沒式物鏡、擁有超高分辨率的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯heidelberg 海德堡 μmla桌面無(wú)掩模光刻機(jī)
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
DWL 66+德國(guó)海德堡 激光直寫光刻機(jī)
dwl 66+激光光刻系統(tǒng)是具經(jīng)濟(jì)效益的高分辨率圖像產(chǎn)生器, 具有多種直寫模塊,實(shí)現(xiàn)不同精度直寫需求, 能于結(jié)構(gòu)上進(jìn)行灰度曝光
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
MLA150德國(guó)海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機(jī)
德國(guó)海德堡 heidelberg 激光直寫光刻機(jī) mla150,德國(guó)高精密激光直寫繪圖機(jī),非接觸式曝光,可支持高效數(shù)位光刻與灰度光刻.
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
OCTOPLUS 500德國(guó)MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)
octoplus 500 mbe系統(tǒng)是為了在6英寸襯底上生長(zhǎng)高質(zhì)量的iii/v族或者ii-vi族異質(zhì)結(jié)構(gòu)材料而研發(fā)業(yè)分子束外延系統(tǒng)。樣品臺(tái)選用熱解石墨加熱或者鎢、鉭加熱絲。標(biāo)準(zhǔn)的octoplus 500有11個(gè)呈放射狀分布的源孔,可以根據(jù)需要增選3個(gè)源孔。
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
EM TXP德國(guó)Leica 全新精研一體機(jī)
德國(guó)leica em txp全新精研一體機(jī),是一款獨(dú)特的可對(duì)目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行精確定位的表面處理工具,特別適合于sem,tem及l(fā)m觀察之對(duì)樣品進(jìn)行切割、拋光等系列處理。它尤其適合于制備高難度樣品,如需要對(duì)目標(biāo)精細(xì)定位或需對(duì)肉眼難以觀察的微小目標(biāo)進(jìn)行定點(diǎn)處理。
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
VK-X3000基恩士KEYENCE形狀測(cè)量激光顯微系統(tǒng)
keyence 基恩士 形狀測(cè)量激光顯微系統(tǒng)全新 vk-x3000,納米 / 微米 / 毫米,一臺(tái)即可完成測(cè)量。292 種分析工具,一臺(tái)即可了解希望獲取的信息。一臺(tái)即包含了光學(xué)顯微鏡,臺(tái)階儀,光學(xué)輪廓儀,及電鏡功能。
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
EVG7200奧地利SmartNIL紫外納米壓印
奧地利smartnil紫外納米壓印:evg7200,leds 制作,led pss納米壓印工藝,led納米透鏡陣列;微流體學(xué);芯片實(shí)驗(yàn)室;抗反射層; 納米壓印光柵; 蓮花效應(yīng);光子帶隙;光學(xué)及通訊:光晶體,激光器件;生物技術(shù)解決方案:醫(yī)藥分析,血液分析,細(xì)胞生長(zhǎng)。
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
EVG610奧地利EVG掩膜光刻機(jī)
evg610是一款非常靈活的適用于研發(fā)和小批量試產(chǎn)的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),可處理大200mm之內(nèi)的各種規(guī)格的晶片。evg610支持各種標(biāo)準(zhǔn)的光刻工藝,例如:真空、軟、硬接觸和接近曝光;也支持其他特殊的應(yīng)用,如鍵合對(duì)準(zhǔn)、納米壓印光刻、微接觸印刷等。系統(tǒng)中的工具更換非常簡(jiǎn)便快捷,每次更換都可在一分鐘之內(nèi)完成,而不需要門的工程人員和培訓(xùn),非常適合大學(xué)、研究所的科研實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)。
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
EVG510奧地利EVG鍵合機(jī)
奧地利evg鍵合機(jī):evg510,是一款半自動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng),可以處理大200mm的晶圓,非常適合于研發(fā)和小批量生產(chǎn)。evg510提供了除上料和下料外的全自動(dòng)工藝處理過程,并配備了業(yè)界公認(rèn)的優(yōu)異的加熱和壓力均勻性系統(tǒng)。evg510模塊化的鍵合腔室設(shè)計(jì)可用于150mm或200mm晶圓鍵合,并且其工藝菜單與evg其他更高系列的鍵合機(jī)相匹配,可以方便的實(shí)現(xiàn)從實(shí)驗(yàn)線到量產(chǎn)線的工藝復(fù)制。
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
EVG510IS奧地利EVG鍵合機(jī)
evg520is是一款設(shè)計(jì)用于小批量生產(chǎn)的半自動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng), 大硅片允許尺寸為200mm。集evg新技術(shù)及客戶反饋基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)的evg520is,配備了evg公司的利吸盤設(shè)計(jì)---這種吸盤可以提供對(duì)稱的快速加熱和冷卻功能。evg520is的很多優(yōu)勢(shì)特性,如獨(dú)立的上下盤加熱和高壓鍵合工藝、高度的材料和工藝靈活性等,都幫助客戶很好的實(shí)施鍵合研究和生產(chǎn)。
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
EVG620奧地利EVG單雙面光刻機(jī)(帶有壓印功能)
evg620 單面/雙面光刻機(jī)(帶有壓印功能),evg620 是一款非常靈活和可靠的光刻設(shè)備,可配置為半自動(dòng)也可以為全自動(dòng)形式。evg620 既可以用作雙面光刻機(jī)也可以用作 150mm 硅片的精確對(duì)準(zhǔn)設(shè)備;既可以用作研發(fā)設(shè)備,也可以用作量產(chǎn)設(shè)備。精密的契型補(bǔ)償
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
NE-550Z日本Ulvac干法等離子刻蝕裝置
ne-550z是高真空l(shuí)oad-lock式干法等離子刻蝕裝置,適用于半導(dǎo)體材料、金屬材料等的精細(xì)刻蝕
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
CS-200z日本Ulvac返回式真空濺射裝置
返回式真空濺射裝置 cs-200z,高真空交直流濺射設(shè)備.適用于金屬、合金 、陶瓷材料的高品質(zhì)濺射成膜.
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
Pioneer 180-2-PLD美國(guó)Neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)
美國(guó)neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)pioneer 180-2-pld,一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
Pioneer 180-2-PLD氮化鎵支撐片,晶片,硅片
2英寸氮化鎵自支撐晶片, 10×10.5mm²氮化鎵自支撐晶片, 非性/半性氮化鎵自支撐晶片, 4英寸氮化鎵厚膜晶片, 2英寸氮化鋁厚膜晶片, 2英寸氮化鎵厚膜晶片
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
AS-ONE法國(guó)Annealsys 高溫退火爐
法國(guó)annealsys 高溫退火爐as-one, 多用途快速熱處理設(shè)備,適用于硅,化合物半導(dǎo)體,太陽(yáng)能電池& mems.
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
OCTOPLUS 400德國(guó)MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍,可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。octoplus 400 是一款通用型mbe系統(tǒng),非常適合于iii/v族, ii/vi族,及其他復(fù)合半導(dǎo)體材料應(yīng)用。兼容2-4英寸標(biāo)準(zhǔn)晶片。豎直分割式腔體設(shè)計(jì),可以裝配各種源爐,實(shí)現(xiàn)不同材料分子束外延生長(zhǎng)。
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
RTP-150德國(guó)UnitemP真空快速退火爐
德國(guó)unitemp真空快速退火爐rtp-150, 單晶圓,150mm,快升溫速率可達(dá)150k/s
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
HERCULES NIL奧地利EVG紫外納米壓印系統(tǒng)
evg的hercules nil 300 mm是一個(gè)完全集成的納米壓印系統(tǒng),是evg的nil產(chǎn)品組合的新成員。 hercules nil基于模塊化平臺(tái),在單個(gè)平臺(tái)上將清洗模塊,抗蝕劑涂層模塊和烘烤預(yù)處理模塊與evg的有smartnil大面積納米壓印(nil)模塊結(jié)合在一起,用于直徑大為300 mm的晶片。
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
EVG720奧地利EVG紫外納米壓印系統(tǒng)
evg720紫外納米壓印用于從印章到襯底的紫外圖形轉(zhuǎn)移。evg720自動(dòng)納米壓印系統(tǒng)允許襯底和印章的尺寸從很小的芯片到150mm直徑的圓片范圍。
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KS-42CRion 液體光學(xué)顆粒度儀
液體光學(xué)顆粒度儀 ks-42c,寬廣的測(cè)試范圍,可測(cè)試 0.5~20um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
8600系列美國(guó) Lakeshore 振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)
美國(guó) lakeshore 振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì) 8600系列:model 8604, model 8607, 更科學(xué),更高效
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
CHEETAH EVO德國(guó)YXLON 定制化的標(biāo)準(zhǔn)X射線檢測(cè)系統(tǒng)
德國(guó)yxlon 定制化的標(biāo)準(zhǔn)x射線檢測(cè)系統(tǒng)cheetah evo,為封裝檢測(cè)、半導(dǎo)體及實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用量身定制、
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
COUGAR EVO德國(guó)YXLON 定制化的緊湊型標(biāo)準(zhǔn)X射線檢測(cè)系統(tǒng)
德國(guó)yxlon 定制化的緊湊型標(biāo)準(zhǔn)x射線檢測(cè)系統(tǒng)cougar evo ,為封裝檢測(cè)、半導(dǎo)體及實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用量身定制
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
HMS-7000韓ECOPIA變溫光霍爾效應(yīng)測(cè)試儀
韓ecopia 變溫光霍爾效應(yīng)測(cè)試儀 hms-7000,可以通過改變照射在樣品上的不同波長(zhǎng)范圍的光源(紅、綠、藍(lán)光源), 得出載流子濃度、遷移率、電阻率及霍爾系數(shù)等半導(dǎo)體電學(xué)重要參數(shù)隨光源強(qiáng)度變化的曲線。
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KL-05日本RION光遮蔽粒子計(jì)數(shù)器
日本rion光遮蔽粒子計(jì)數(shù)器 kl-05,(光滲透法),可測(cè)試粒徑范圍:1~20個(gè)通道范圍,1.3μm~100(0.1μm的間隔)大粒子數(shù)濃度:10 000 顆/l (誤差值低于10%)
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KS-93日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀:ks-93( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:30 000 顆/l (誤差值低于5%),粒徑范圍(5個(gè)通道):≥0.1μm, ≥0.15μm , ≥0.2μm , ≥0.3μm, ≥0.5μm, ≥25μm
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KC-22A日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器:kc-22a ( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:10000顆/l (誤差值低于5%),可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KC-22B日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器:kc-22b ( 光散射法),液體粒子計(jì)數(shù)器,可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KC-31日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器kc-31 ( 光散射法),測(cè)試粒徑(6個(gè)通道),大粒子數(shù)濃度:28000000 顆/l
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KC-32日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:kc-32 ( 光散射法)測(cè)試粒徑(6個(gè)通道):≥0.3μm, ≥0.5μm , ≥1μm , ≥2μm, ≥5μm, ≥10μm
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KC-20A日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:kc-20a ( 光散射法),測(cè)試粒徑(5個(gè)通道):≥10μm, ≥20μm , ≥30μm , ≥50μm, ≥100μm
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KA-05日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器:ka-05( 光散射方式),多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測(cè)試粒徑(2個(gè)通道):≥0.5μm , ≥5.0μm
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KE-18FX日本RIO液體粒子計(jì)數(shù)器
日本rio液體粒子計(jì)數(shù)器ke-18fx ( 光散射法),測(cè)試粒徑(4個(gè)通道):≥0.04μm, ≥0.08μm , ≥0.1μm , ≥0.15μm,
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KS-42D日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀 ks-42d ( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:10 000 顆/l (誤差值低于10%),粒徑范圍(8個(gè)通道,出廠默認(rèn)):≥2μm, ≥3μm , ≥5μm , ≥7μm, ≥10μm, ≥25μm , ≥50μm , ≥100μm(可選 ≥150μm)
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KL-30AX日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器:kl-30ax ( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:15 000 顆/l (誤差值低于10%), 粒徑范圍(4個(gè)通道,工廠標(biāo)配):≥0.04μm, ≥0.08μm , ≥0.1μm , ≥0.15μm
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KL-30A日本理音RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:kl-30a ( 光散射法), 測(cè)純水,可打印。大粒子數(shù)濃度:15 000 顆/l (誤差值低于10%), 粒徑范圍(4個(gè)通道,出廠設(shè)置):≥0.05μm, ≥0.1μm , ≥0.15μm , ≥0.2μm
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KL-30B日本理音RION 氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:kl-30b ( 光散射法), 測(cè)純水,可打印。大粒子數(shù)濃度:200 000 顆/l (誤差值低于10%),粒徑范圍(4個(gè)通道,出廠設(shè)置):≥0.05μm, ≥0.1μm , ≥0.15μm , ≥0.2μm
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KC-51日本理音RION 手持式粒子計(jì)數(shù)器
日本rion 手持式粒子計(jì)數(shù)器:kc-51( 光散射方式),大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/m³ (誤差值低于10%)
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KC-52日本理音RION 手持式粒子計(jì)數(shù)器
日本rion 手持式粒子計(jì)數(shù)器:kc-52( 光散射方式),粒徑范圍:5個(gè)通道: 0.3μm , 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/m³ (誤差值低于10%)
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KA-02日本理音RION 氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:ka-02( 光散射方式),多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測(cè)試粒徑(2個(gè)通道):≥0.3μm , ≥0.5μm,大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/l (誤差值低于10%)
更新時(shí)間:
2025-06-25
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KA-03日本理音RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:ka-03( 光散射方式),多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測(cè)試粒徑(5個(gè)通道):≥0.3μm , ≥0.5μm ,≥1μm , ≥2μm ,≥5μm ,大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/l (誤差值低于10%)
更新時(shí)間:
2025-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
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KA-82日本理音RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:ka-82( 光散射方式),多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測(cè)試粒徑(5個(gè)通道):≥0.1μm , ≥0.15μm, ≥0.2μm , ≥0.3μm , ≥0.5μm ,大粒子數(shù)濃度:10 000顆/l (誤差值低于5%)
更新時(shí)間:
2025-06-25
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綠光納鉆孔設(shè)備Standard Drilling Machine綠光納鉆孔設(shè)備
玻璃去油墨設(shè)備,采用訂制紫外納激光器對(duì)玻璃表面進(jìn)行去油墨以及油墨微加工, 將產(chǎn)品損傷降至低。
更新時(shí)間:
2025-06-25
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OAI 800 MBA美國(guó)OAI光刻機(jī)
oai 800型光學(xué)正面和背面光刻機(jī)系統(tǒng), 是半自動(dòng),four-camera、光學(xué)正面和背面光刻機(jī)。它提供其精確的(1碌m - 2 m碌)對(duì)準(zhǔn)精度,旨在大大超過任何紅外背后對(duì)準(zhǔn)器性能的一個(gè)非常有競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格。通用模型800光刻機(jī)是理想的用于低產(chǎn)量、研發(fā)實(shí)驗(yàn)室和大學(xué)。
更新時(shí)間:
2025-06-25
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NanoFrazor 3D瑞士納米結(jié)構(gòu)高速直寫機(jī)機(jī)
瑞士nanofrazor 3d納米結(jié)構(gòu)高速直寫機(jī),源于發(fā)明stm和afm的ibm蘇黎世研發(fā)中心,是其在納米加工技術(shù)的新研究成果。nanofrazor納米3d結(jié)構(gòu)直寫機(jī)第 一次將納米尺度下的3d結(jié)構(gòu)直寫工藝快速化、穩(wěn)定化。
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2025-06-25
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M160中國(guó)nanoArch科研3D打印機(jī)
nanoarch科研3d打印機(jī)m160 ,本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動(dòng)化的多材料送料系統(tǒng),兼顧高精度和多材料打印,可支持同時(shí)打印4種樹脂基復(fù)合材料進(jìn)行層間或?qū)觾?nèi)多材料3d打印,適用于基礎(chǔ)理論驗(yàn)證及原理創(chuàng)新研究,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。其主要應(yīng)用在點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)材料、功能梯度材料、超材料、復(fù)合材料、復(fù)雜微流控,多材料4d打印等方面。
更新時(shí)間:
2025-06-25
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