光學(xué)平臺產(chǎn)品及廠家
特點(diǎn)：氣墊隔振系統(tǒng)：隔振性能好優(yōu)質(zhì)高導(dǎo)磁不銹鋼面板：精度高不變形。m6安裝螺母，間距50*50mm或25*25mm蜂窩結(jié)構(gòu)高分子材料隔振層，固有頻率低，隔振性能好優(yōu)質(zhì)中碳鋼墻板：鋼性強(qiáng)、穩(wěn)定可靠高耐磨
更新時(shí)間:2025-12-05
精密光學(xué)平臺特點(diǎn)：采用優(yōu)質(zhì)高導(dǎo)磁不銹鋼機(jī)模板面；平面粗糙度不大于0.8um，平面度不大于0.05mm/m2m6安裝螺孔間距25*25或50*50mm；蜂窩結(jié)構(gòu)隔震層面，固有頻率低、隔振性能好；優(yōu)質(zhì)中碳
更新時(shí)間:2025-12-05
光學(xué)平臺是根據(jù)教育部高教普物光學(xué)實(shí)驗(yàn)大綱的要求而設(shè)計(jì)的。平臺系統(tǒng)由光學(xué)實(shí)驗(yàn)平臺主體、多維調(diào)整架、光源、光學(xué)組件組成。教師可以根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求，選擇合適的組件安排實(shí)驗(yàn)，進(jìn)行開放式教學(xué)，培養(yǎng)學(xué)生的思維能力及實(shí)
更新時(shí)間:2025-12-05
產(chǎn)品詳細(xì)資料 wsz型光學(xué)實(shí)驗(yàn)平臺是根據(jù)教育部高教普物光學(xué)實(shí)驗(yàn)大綱的要求而設(shè)計(jì)的。教師可以根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求，選擇合適的組件安排實(shí)驗(yàn)，進(jìn)行開放式教學(xué)，培養(yǎng)
更新時(shí)間:2025-12-05
天津拓普氣墊精密光學(xué)平臺特點(diǎn)：氣墊隔振系統(tǒng)：隔振性能好優(yōu)質(zhì)高導(dǎo)磁不銹鋼面板：精度高不變形。m6安裝螺母，間距50*50mm或25*25mm蜂窩結(jié)構(gòu)高分子材料隔振層，固有頻率低，隔振性能好優(yōu)質(zhì)中碳鋼墻板
更新時(shí)間:2025-12-05
交互虛擬現(xiàn)實(shí)開發(fā)平臺vizard虛擬現(xiàn)實(shí)軟件工具包括建立互動的3d內(nèi)容所需要的一切遵循快速原型設(shè)計(jì)原則，vizard使您快速創(chuàng)建內(nèi)容并提供豐富資源庫，甚至zui具有挑戰(zhàn)性的應(yīng)用案例。使用vizard，甚至沒有編程經(jīng)驗(yàn)的人也可以輕松建立互動的3d內(nèi)容：快速呈現(xiàn)互動3d刺激：有豐富的資源庫，無論有無編程經(jīng)驗(yàn)，都可以快速地呈現(xiàn)刺激;
更新時(shí)間:2025-12-05
1. 系統(tǒng)方案ansys高精度自動駕駛仿真驗(yàn)證平臺提供了基于物理的三維場景建模、基于語義的道路事件建模、基于物理光學(xué)屬性的攝像頭和激光雷達(dá)的仿真、基于物理電磁學(xué)屬性的毫米波雷達(dá)的仿真，從而實(shí)現(xiàn)多傳感器
更新時(shí)間:2025-12-05
psylab智能人因測試云平臺一、系統(tǒng)簡介psylab智能人因測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價(jià)與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進(jìn)行主觀施測，包括問卷、量表以及行為
更新時(shí)間:2025-12-05
psylab心理評估云平臺系統(tǒng)一、系統(tǒng)簡介psylab心理評估云平臺系統(tǒng)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價(jià)與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進(jìn)行主觀施測，包括問卷、量表以及行為
更新時(shí)間:2025-12-05
supelco spme操作平臺（含15ml瓶架）/15ml固相微萃取操作平臺在支撐固相微萃取手柄的同時(shí)固定八個(gè)樣品瓶，以得到*的萃取頭浸入深度。產(chǎn)品目錄號57357-u 可容納 15ml 樣品瓶。不能用于自動/液相色譜萃取頭手柄。&n
更新時(shí)間:2025-12-05
美nano-master ald/peald原子層沉積：nld-4000 獨(dú)立式ald系統(tǒng)nld-3500 緊湊型獨(dú)立式ald系統(tǒng)nld-3000 臺式ald系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-12-04
美nano-master rie反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)nrr-4000 獨(dú)立式雙rie或icp刻蝕系統(tǒng)nre-4000 獨(dú)立式rie或icp系統(tǒng)nre-3000 臺式rie系統(tǒng)ndr-4000 深硅刻蝕系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-12-04
美nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng) ndt-4000,是一款器件測試系統(tǒng)，俗稱“熱真空系統(tǒng)”,可以用于真空和可控的均勻加熱以及冷卻循環(huán)條件下的器件或樣片測試。
更新時(shí)間:2025-12-04
ure-2000系列紫外單面光刻機(jī)，主要型號有：ure-2000a，ure-2000b，ure-20000/35,ure-20000/35a，ure-2000/25,ure-2000/17.由中國科學(xué)院制造生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-12-04
ure-2000/a8 紫外單面光刻機(jī)，中科院設(shè)計(jì)生產(chǎn)。曝光面積： 200mm×200mm
更新時(shí)間:2025-12-04
ure-2000a 型紫外單面光刻機(jī)，中科院設(shè)計(jì)生產(chǎn)，曝光面積：150mmx150mm
更新時(shí)間:2025-12-04
ure-2000b 型紫外單面光刻機(jī)，中科院設(shè)計(jì)生產(chǎn)，曝光面積：100mmx100mm
更新時(shí)間:2025-12-04
ure-2000/35 型紫外單面光刻機(jī)，中科院設(shè)計(jì)生產(chǎn)，曝光面積：4 英寸 ，非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動化程度高）和高校教學(xué)科研 （可靠性好，演示方便） 。
更新時(shí)間:2025-12-04
芬蘭 picosun r-200標(biāo)準(zhǔn)型ald,為液體、氣體和固體化學(xué)物提供的更高級的，易更換的前驅(qū)源系統(tǒng)，能夠在晶圓、3d樣品和各種納米特性的樣品上生長顆粒度最小的薄膜層。 在最基本的picosun™ r系列配置中可以選擇多個(gè)獨(dú)立的，完全分離的源入口匹配多種類型的前驅(qū)源。
更新時(shí)間:2025-12-04
德國 picosun p-1000 pro ald 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī),156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（雙面/背對背）,高達(dá)400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（雙面/背對背）,(w x h x d) 230 cm x 270 cm x 125 cm,標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 al2o3 工藝.
更新時(shí)間:2025-12-04
picosun p-300 advanced ald 高級型原子層沉積機(jī).156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（雙面/背對背），高達(dá)300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（雙面/背對背）；roll-to-roll, 襯底最大寬 300 mm。全自動轉(zhuǎn)載，用工業(yè)機(jī)器人實(shí)現(xiàn),標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 al2o3 工藝 .
更新時(shí)間:2025-12-04
picosun p-300b advanced ald 高級原子沉積機(jī),基片尺寸和類型 300mm晶圓10片/批次（標(biāo)準(zhǔn)間距）,200mm晶圓25+2片/批次（標(biāo)準(zhǔn)間距）,(w x h x d) 149 cm x 191 cm x 111 cm,標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 al2o3 工藝.
更新時(shí)間:2025-12-04
p-300s 生產(chǎn)線型原子層沉積機(jī),最大300mm晶圓/單片,25片晶圓盒對盒式全自動裝載（cassette-to-cassette），用picoplatform™ 300集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn),尺寸：(w x h x d) 160 cm x 80 cm x 240 cm
更新時(shí)間:2025-12-04
p-300f,p-300bv 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī)，p-300f pro: 27片晶圓盒對盒式全自動裝載（cassette-to-cassette），用picoplatform™200集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)。p-300bv pro: 52片晶圓盒對盒式全自動裝載，用真空批量load lock實(shí)現(xiàn)。
更新時(shí)間:2025-12-04
picosun p-200s pro ald 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī) ，襯底尺寸和類型： 。50 – 200 mm /單片 。156 mm x 156 mm 太陽能硅片 。150 mm x 150 mm 顯示面板
更新時(shí)間:2025-12-04
芬蘭picosun™ r-200高級型 ald，襯底尺寸和類型 ： 。50-200 mm /單片 。156 mm x 156 mm太陽能硅片 。3d復(fù)雜表面襯底 。粉末與顆粒 。roll-to-roll , 襯底最大寬 70 mm 。多孔，通孔，高深寬比（har）樣品
更新時(shí)間:2025-12-04
picosun™ r-200標(biāo)準(zhǔn)型原子層沉積機(jī)，picosun™ r系列設(shè)備提供高質(zhì)量ald薄膜的沉積技術(shù)，并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)極佳的均勻性，包括最具挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。 我們?yōu)橐后w、氣體和固體化學(xué)物提供的更高級的，易更換的前驅(qū)源系統(tǒng)，能夠在晶圓、3d樣品和各種納米特性的樣品上生長顆粒度最小的薄膜層。
更新時(shí)間:2025-12-04
plasmapro 80 rie 牛津等離子體刻蝕機(jī),是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。
更新時(shí)間:2025-12-04
plasmapro 80 rie 牛津等離子體刻蝕機(jī),是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。
更新時(shí)間:2025-12-04
plasmapro 80 icpcvd 牛津icp等離子沉積機(jī)，是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是科學(xué)研究、原型設(shè)計(jì)和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高性能工藝。
更新時(shí)間:2025-12-04
牛津oxford system 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備,該設(shè)備是一個(gè)靈活和功能強(qiáng)大的等離子體刻蝕和淀積工藝設(shè)備,具有工藝靈活性，適用于化合物半導(dǎo)體，光電子學(xué)，光子學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)和微流體技術(shù).
更新時(shí)間:2025-12-04
plasmapro 80 icp 英國牛津oxford 等離子體刻蝕機(jī),是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小型且使用方便的直開式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝質(zhì)量。直開式設(shè)計(jì)允許快速的進(jìn)行晶圓裝卸，是科學(xué)研究、原型設(shè)計(jì)和少量生產(chǎn)的理想選擇。 該設(shè)備通過優(yōu)化了的電冷卻技術(shù)和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高度穩(wěn)定的工藝結(jié)果。
更新時(shí)間:2025-12-04
牛津opal開放式樣品載入ald設(shè)備，緊湊型開放式樣品載入原子層沉積（ald）系統(tǒng)，opal提供了業(yè)的熱ald設(shè)備，可以簡單明了的升使用等離子體，使得在同一緊湊設(shè)備中集成了等離子體和熱ald。
更新時(shí)間:2025-12-04
日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí)，操作性能大簡單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時(shí)間:2025-12-04
日本jeol能譜儀jed-2300/2300f analysis station是以“圖像觀察和分析“ 為基本理念的tem/eds集成系統(tǒng)。通過與sem的馬達(dá)驅(qū)動樣品臺聯(lián)動使用，可以進(jìn)行大范圍的觀察和分析。 eds通過檢測被電子束激發(fā)出的樣品特征x射線，確定樣品含有的元素及成分比，可以進(jìn)行微區(qū)的點(diǎn)分析、線分析及面分析。
更新時(shí)間:2025-12-04
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500，是jeol intouchscope系列的新機(jī)型。 從設(shè)定視野到生成報(bào)告，用于分析的軟件整合于一體，加快了作業(yè)速度！是一款無縫操作，使用更加方便的掃描電子顯微鏡。
更新時(shí)間:2025-12-04
日本jeol 熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7200f，jsm-7200f的電子光學(xué)系統(tǒng)應(yīng)用了日本電子旗艦機(jī)-jsm-7800f prime采用的浸沒式肖特基電子槍技術(shù)，標(biāo)配了ttls系統(tǒng)（through-the-lens system），因此無論是在高/低加速電壓下，空間分辨率都比傳統(tǒng)機(jī)型有了很大的提升。
更新時(shí)間:2025-12-04
新一代超高精度電子束光刻機(jī) p21，樣品尺寸覆蓋 2/4/6 英寸晶圓，超高寫場拼接精度，電子束閉環(huán)控制系統(tǒng)，束流的時(shí)間及空間穩(wěn)定性高，高性能 30 kv 電子束光刻機(jī)。
更新時(shí)間:2025-12-04
opticool超精準(zhǔn)全開放強(qiáng)磁場低溫光學(xué)研究平臺，系統(tǒng)擁有3.8英寸超大樣品腔、雙錐型劈裂磁體，可在超大空間為您提供高達(dá)±7t的磁場。多達(dá)7個(gè)側(cè)面窗口、1個(gè)頂部超大窗口方便光線由各個(gè)方向引入樣品腔，高度集成式的設(shè)計(jì)讓您的樣品在擁有低溫磁場的同時(shí)擺脫大型低溫系統(tǒng)的各種束縛。
更新時(shí)間:2025-12-04
attoafm/attomfm/attoshpm 低溫強(qiáng)磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡，采用模塊化的設(shè)計(jì)。利用標(biāo)配的控制器和樣品掃描臺，用戶僅需要更換掃描頭和對應(yīng)的光學(xué)部件即可實(shí)現(xiàn)不同功能之間的切換。
更新時(shí)間:2025-12-04
德國sentech光伏測量儀mdpmap，靈活的自動掃描系統(tǒng)，是專為半導(dǎo)體晶片或部分工藝過的晶片的多功能、非接觸和少子壽命測量而設(shè)計(jì)的。mdpmap能夠連續(xù)地改變激發(fā)脈沖寬度，從非常短的脈沖(100ns)到穩(wěn)態(tài)測量(幾ms)，研究不同深度的缺陷動力學(xué)和少子壽命特性。直觀的繪圖軟件適用于有效的常規(guī)測量以及復(fù)雜的研發(fā)應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-12-04
英國hhv auto 306 科研工作者和電子顯微學(xué)家的多功能鍍膜設(shè)備，是一種多功能的緊湊型鍍膜設(shè)備，設(shè)計(jì)用于滿足科研工作者和電子顯微學(xué)家的需求。auto306可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標(biāo)準(zhǔn)化工藝附件，提供一系列實(shí)驗(yàn)技術(shù)以滿足現(xiàn)代化實(shí)驗(yàn)室的需要。
更新時(shí)間:2025-12-04
tf500/tf600 適合先進(jìn)研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)，系統(tǒng)配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件，以精確的符合用戶需求。這兩個(gè)型號的系統(tǒng)都可以安裝多個(gè)鍍膜源，也都支持離子束處理選項(xiàng)。有一系列預(yù)進(jìn)樣室（load lock）和樣品操縱裝置可供選擇，以提高真空鍍膜效率。
更新時(shí)間:2025-12-04
ion 100wb-40q 德國 pva tepla 等離子去膠機(jī)，最新推出的具有高性價(jià)比的真空等離子去膠設(shè)備，配備了一個(gè)圓筒石英腔，特別適用于半導(dǎo)體、led、mems等領(lǐng)域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物刻蝕、表面清潔等應(yīng)用的批次處理。
更新時(shí)間:2025-12-04
208hr高分辨離子濺射儀-適用于場發(fā)射掃描電鏡，可選擇多種鍍膜材料，精確的膜厚控制，樣品臺控制靈活，多個(gè)樣品座，樣品室?guī)缀慰勺，寬范圍的操作壓力，緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)，操作容易。
更新時(shí)間:2025-12-04
oai 6000 fsa 全自動上側(cè)或后側(cè)光刻機(jī),具有完全自動化的亞微米分辨率的頂側(cè)或背側(cè)對齊，提供無與倫比的性價(jià)比。
更新時(shí)間:2025-12-04
ksi v-quattro四探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，四探頭系統(tǒng)，同時(shí)使用4只換能器
更新時(shí)間:2025-12-04
ksi v-octo 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，該系統(tǒng)同時(shí)使用8只換能器，能最大限度的確？焖賵D像采集和高效能。
更新時(shí)間:2025-12-04
最新產(chǎn)品
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- 整條生產(chǎn)花生油設(shè)備,壓榨植物油精煉設(shè)備,志乾國標(biāo)食用油加工設(shè)備 2025/12/8 13:34:32
- 控制器7MB2335-0DX00-3AA1自動化儀器 2025/12/8 13:29:52
- 觸摸屏7MB2335-0VG10-3AA1工業(yè)設(shè)備 2025/12/8 13:28:52
- 觸摸屏7MB2335-0AE10-3AA1工業(yè)設(shè)備 2025/12/8 13:28:09
- 控制器7MB2335-0DE10-3AA1自動化儀器 2025/12/8 13:27:34
- 觸摸屏7MB2335-0CJ10-3AA1自動化儀器 2025/12/8 13:26:49
- 模塊7MB2335-0PK00-3AA1工業(yè)設(shè)備 2025/12/8 13:25:57
- 觸摸屏7MB2335-0FK00-3AA1自動化儀器 2025/12/8 13:25:19
- 觸摸屏7MB2335-0CH10-3AA1工業(yè)設(shè)備 2025/12/8 13:24:36
- 控制器7MB2335-0FL00-3AA1工業(yè)設(shè)備 2025/12/8 13:23:48
- 觸摸屏7MB2335-0FG10-3AA1工業(yè)設(shè)備 2025/12/8 13:23:01
- 控制器7MB2335-0FG00-3AA1工業(yè)設(shè)備 2025/12/8 13:22:18
- 控制器7MB2335-0NJ10-3AA1工業(yè)設(shè)備 2025/12/8 13:21:30
- 模塊7MB2335-0AH00-3AA1自動化儀器 2025/12/8 13:20:46
- 模塊7MB2335-0AD10-3AA1自動化儀器 2025/12/8 13:20:07
- 控制器7MB2335-0NL00-3AA1工業(yè)設(shè)備 2025/12/8 13:19:20