等離子清洗器產(chǎn)品及廠家
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時間:2025-10-16
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術(shù)可應用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時間:2025-10-16
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能?？梢詰糜诙喾N領(lǐng)域。
更新時間:2025-10-16
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能?？梢詰糜诙喾N領(lǐng)域。
更新時間:2025-10-16
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能?？梢詰糜诙喾N領(lǐng)域。
更新時間:2025-10-16
tetra 30等離子系統(tǒng)能夠以不同的形式進行整合，可以滿足生產(chǎn)企業(yè)需求，也能夠按照客戶要求進行定制。
更新時間:2025-10-16
對于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-10-16
對于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-10-16
等離子清洗設(shè)備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時間:2025-10-16
等離子清洗設(shè)備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時間:2025-10-16
等離子清洗設(shè)備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的
更新時間:2025-10-16
等離子清洗設(shè)備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的
更新時間:2025-10-16
等離子清洗設(shè)備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時間:2025-10-16
等離子清洗機（plasma cleaner）也叫等離子清潔機、等離子表面處理儀，是一種低能耗、清潔、環(huán)保、處理均勻的的高科技技術(shù)，它利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。
更新時間:2025-10-16
等離子清洗能實現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設(shè)備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。
更新時間:2025-10-16
等離子清洗機（plasma cleaning）能實現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設(shè)備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。
更新時間:2025-10-16
等離子清洗機（plasma cleaning）能實現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設(shè)備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。
更新時間:2025-10-16
專為處理粉體如粉末、顆粒狀材料樣品而設(shè)計的粉體專用等離子清洗機，可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料，改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。
更新時間:2025-10-16
vgb系列手套箱專用等離子清洗設(shè)備，優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計更適合手套箱內(nèi)使用。安裝簡單方便，性能穩(wěn)定，實用性強，容易維護。
更新時間:2025-10-16
cpc系列等離子清洗機是為中試客戶和工業(yè)級客戶而設(shè)計的等離子體表面處理設(shè)備。配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場景清洗，活化、刻蝕等應用。設(shè)備可在嚴苛環(huán)境下穩(wěn)定運行，產(chǎn)品性能穩(wěn)定，樣品處理重復性、一致性好。
更新時間:2025-10-16
cif透射電鏡（tem）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源設(shè)計，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。主要用于tem透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
更新時間:2025-10-16
tem透射樣品桿長期暴露于大氣中，空氣中水汽及污染物會附著于樣品桿表面，會導致電鏡抽真空時間延長，污染電鏡真空腔室、探測器等，影響電鏡的使用壽命
更新時間:2025-10-16
cap-auto系列全自動在線式大氣等離子清洗機采用單軸模組配合旋噴等離子組件，噴洗高度可調(diào)，運動軌跡可根據(jù)要求設(shè)定，上下料方式采用鏈條或皮帶傳動連接前后工序，實現(xiàn)對產(chǎn)線產(chǎn)品的等離子清洗處理。
更新時間:2025-10-16
cpc-auto在線片式真空等離子清洗機具有成本較低、容易使用，維護乃保養(yǎng)費用低，環(huán)保等優(yōu)點。適用于芯片粘結(jié)工藝前、引線鍵合和覆晶封裝工藝前的表面處理，與傳統(tǒng)獨立式的等離子清洗機相比，在線片式真空等離子清洗機具有自動化程度高、清洗效率高、設(shè)備潔凈度高、適用范圍廣等優(yōu)點，適用于大規(guī)模全自動化生產(chǎn)。
更新時間:2025-10-16
等離子去膠機，采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復雜的幾何構(gòu)形都可以進行等離子體去膠。特別適合于大學，科研院所和微電子、半導體企業(yè)實驗室，對電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹脂、mems制造過程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對基材進行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預處理等。
更新時間:2025-10-16
純化器pfa清洗方便清晰液面500ml規(guī)格酸純化系統(tǒng)：又稱酸純化儀，酸提純器，酸試劑提純器，酸蒸餾純化器等，實驗室工作中常常由于酸的純度較差，造成分析結(jié)果的偏差與錯誤。市售的超純酸往往由于
更新時間:2025-10-15
聚四氟乙烯2寸花籃ptfe基片清洗器??聚四氟乙烯2寸花籃ptfe基片清洗器也叫清洗籃，清洗架子，也有pfa材料的，一般用于太陽能硅片擺放，清洗，泡酸拿上來等，俗語叫花籃。多用在多晶硅，新
更新時間:2025-10-15
pfa清洗桶圓形耐腐蝕小瓶清洗器1、小瓶清洗桶用于消除小型pfa溶樣罐和燒杯上的樣品殘留。 2、清洗桶搭配清洗支架一起使用。支架采用網(wǎng)格設(shè)計以將部件固定在適當位置，有效進行批量清
更新時間:2025-10-15
gv10x 是由ibss group和一個擁有專利的等離子源的發(fā)明者共同合作開發(fā)并生產(chǎn)的新一代專門清洗腔體的等離子清洗系統(tǒng)。gv10x可以在分子泵工作的真空壓力狀態(tài)下運行，它比以往傳統(tǒng)方法更加有效的（10到20倍）去除碳和碳氫污染。它能夠去除掃描電子顯微鏡(sem)圖像中的假象; 使電子顯微鏡長久的保持高分辨率和束流穩(wěn)定性。
更新時間:2025-10-14
大氣等離子清洗機采用噴嘴式等離子發(fā)生器對焊接或者印刷樣品進行表面活化。該設(shè)備可伸縮，且能與機器人及自動化生產(chǎn)線很好的兼容。與其他所有等離子系統(tǒng)一樣，大氣等離子體系統(tǒng)提供一致的和可重復的結(jié)果。大氣等離子清洗機噴頭的氣體連線可長達10米，便于集成到大尺寸的系統(tǒng)。各種不同類型的噴頭可可用于任何應用。
更新時間:2025-10-14
等離子表面處理機是一種非破壞性的表面處理設(shè)備，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定真空負壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的改變，從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗，在極短時間內(nèi)有機污染物就被外接真空泵徹底抽走，其清洗能力可以達到分子級。
更新時間:2025-10-14
等離子表面處理機是一種非破壞性的表面處理設(shè)備，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定真空負壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的改變，從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗，在極短時間內(nèi)有機污染物就被外接真空泵徹底抽走，其清洗能力可以達到分子級。
更新時間:2025-10-14
plasma wand 是一款可以握在手中操作的等離子體發(fā)生設(shè)備，無需外部氣體，只需接通電源即可工作運行。plasmawand是一款完美的小型設(shè)備，適用于研究所，大學的實驗室，或者任何需要小型等離子設(shè)備的場合。
更新時間:2025-10-14
儀器符合中國環(huán)境保護部hj/t 372-2007《水質(zhì)自動采樣器技術(shù)要求及檢測方法》，是集流量測量、水樣采集，自動分瓶、恒溫冷藏一體的多功能環(huán)境監(jiān)測儀器，具有體積小，方便移動、操作簡捷、環(huán)保節(jié)能等特點。適用于各級環(huán)境監(jiān)測站、監(jiān)察機構(gòu)、科研院所、水務、市政及污水處理廠，對工業(yè)污染源排放口、江、河、湖、海等水樣進行自動采樣。
更新時間:2025-10-13
德國 pva tepla等離子清洗系統(tǒng)80 plus hs, giga690,10n optimus100,80 plus，有別于傳統(tǒng)的射頻等離子(物理)清洗方式，微波等離子清洗可以清洗到樣品的每一個部位，實現(xiàn)清洗過程的自由基不會被障礙物所阻擋，并且不會改變表面的粗糙度。
更新時間:2025-10-11
日本yamato等離子清洗機pdc200/pdc210/pdc510|gas plasma dry cleaners，主要用于csb/bga/cob基板的等離子處理，有機膜和金屬氧化膜的除去，印刷電路基板的干洗，界面活性處理等；適用于科研試驗的等離子清洗機。
更新時間:2025-10-11
spk-500s 寬幅等離子清洗機(plasma cleaner)，氣體通過激勵電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產(chǎn)品表面，清洗產(chǎn)品表面污染物，提高表面活性，增強附著性能。等離子清洗是一種新型的、環(huán)保、高效、穩(wěn)定的表面處理方式。
更新時間:2025-10-10
aac54 plus酸逆流清洗器,通過相對密閉的腔體內(nèi)酸蒸氣持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學分析后的各種石英玻璃、ptfe等材質(zhì)的試管及附件.上面的任何痕量金屬污染物徹.底清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應用于實驗室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
更新時間:2025-10-10
aac54 plus酸逆流清洗器,通過相對密閉的腔體內(nèi)酸蒸氣持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學分析后的各種石英玻璃、ptfe等材質(zhì)的試管及附件.上面的任何痕量金屬污染物徹.底清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應用于實驗室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
更新時間:2025-10-10
quickglow是經(jīng)濟實惠、易于使用、放電穩(wěn)定的一款國產(chǎn)輝光放電儀，其常見的應用之一是用于tem載網(wǎng)表面的親水化處理
更新時間:2025-10-10
hty-30a型真空泵是設(shè)計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設(shè)計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套，采用負壓抽濾方式進行微生物限度檢查，也可單作為抽氣設(shè)備使
更新時間:2025-10-10
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設(shè)備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術(shù)。可以對不耐濕熱的器械進行低溫快速滅菌。特別是對醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導線、電池等）和非金屬類（如導管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢明顯
更新時間:2025-10-09
等離子清洗機kt-s2dqx,用于表面清洗,活化,刻蝕電源屬于150w 13.56mhz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應用于半導體、鍍膜工藝、pcb制程、pcb制程、元器件封裝、cog、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。
更新時間:2025-09-29
等離子去膠機kt-s2dqx能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、涂鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。本產(chǎn)品配備觸摸屏控制，操作更便捷，更智能。
更新時間:2025-09-29
最新產(chǎn)品
- CTL-6-L 2025/10/20 19:41:25
- CTL-9L-1 2025/10/20 19:40:42
- DCS-20-05-ASH 2025/10/20 19:38:17
- HCS-10-50APCLS 2025/10/20 19:37:28
- CTU-8-S50-60 2025/10/20 19:36:52
- CTL-6-S-H 2025/10/20 19:36:14
- HCS-20-100-AS 2025/10/20 19:33:36
- CTL - 24 - 3FC 2025/10/20 19:33:00
- HCS-20-SC-A-2.5 2025/10/20 19:32:18
- HCS-20-50-AP 2025/10/20 19:31:30
- CTL-12L-8 2025/10/20 19:28:52
- HCS-20-150-AS 2025/10/20 19:28:17
- HCS-36-200-AS-CL 2025/10/20 19:27:40
- HCS-20-SC-A-5 2025/10/20 19:27:03
- CTL-24-S28-20Z 2025/10/20 19:24:27
- HCS-20-10-AP-CL 2025/10/20 19:23:57
- CTL-24-TE 2025/10/20 19:23:12
- 產(chǎn)品推送:M68Adn(一站到/直+達+全+境) 2025/10/20 19:22:42
- CTL-18S-1 2025/10/20 19:22:39
- 產(chǎn)品推送:SGMPH-02AAA-TE61(一站到/直+達+全+境) 2025/10/20 19:21:53
- 產(chǎn)品推送:S8JXG60024C(一站到/直+達+全+境) 2025/10/20 19:20:30
- CTL-36-S56-10B1 2025/10/20 19:19:56
- 產(chǎn)品推送:0355459A(一站到/直+達+全+境) 2025/10/20 19:19:49
- HPS-15-AS 2025/10/20 19:19:25
- 產(chǎn)品推送:Pcisa-3716Ev-R3(一站到/直+達+全+境) 2025/10/20 19:19:00
- CTL-12-S36-10 2025/10/20 19:18:49
- HPS-20-AP 2025/10/20 19:18:16
- 產(chǎn)品推送:Neugart Wple 60(一站到/直+達+全+境) 2025/10/20 19:17:59
- 產(chǎn)品推送:Em02R03 5886 0021(一站到/直+達+全+境) 2025/10/20 19:17:20
- 產(chǎn)品推送:Fx1Nc32Mt(一站到/直+達+全+境) 2025/10/20 19:16:33