有掩模光刻機產(chǎn)品及廠家
羊用b超機有哪些型號，羊用b超機檢測山羊懷孕 懷孕的早期檢測是生殖管理的重要方面之一，應(yīng)在動物配種后進行。 盡早發(fā)現(xiàn)懷孕可以提供快速的配種成功信息，從而可以實現(xiàn)因不育引起的生產(chǎn)效率，進而減少育種計劃的
更新時間:2025-12-05
上海祥樹歐茂機電設(shè)備有限公司成立于1999年，經(jīng)過多年的努力與良好的信譽度，公司與國際機電行業(yè)品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個穩(wěn)定而高效的全球化國際供應(yīng)鏈體系，竭真探頭盡全力為客戶提供服務(wù)。
更新時間:2025-11-17
織雀™pl-3d premium 是托托科技自主研發(fā)的高精密微3d光刻設(shè)備， 高光學分辨率可達1μm，支持大50 mm×50 mm×50 mm的加工尺寸，設(shè)備還支持對準套刻功能，可在已有結(jié)構(gòu)表面進行多材料的駁接打印，在復雜三維微納結(jié)構(gòu)、高深寬比微納結(jié)構(gòu)以及復合材料三維微納結(jié)構(gòu)制造方面具有突出的潛能和優(yōu)勢。
更新時間:2025-09-09
織雀™pl-3d 是托托科技自主研發(fā)的桌面式高精密3d光刻設(shè)備，光學精度達5μm。在復雜三維微納結(jié)構(gòu)、高深寬比微納結(jié)構(gòu)以及復合材料三維微納結(jié)構(gòu)制造方面具有突出的潛能和優(yōu)勢，而且還具有制造周期短、打印成本低、成型精度高、可使用材料種類多、無需掩膜版或模具直接成型的優(yōu)點。
更新時間:2025-09-09
vpg 200 / vpg 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計。它們支持所有標準的中小型面罩尺寸，大尺寸為 410 x 410 mm++2.應(yīng)用包括
更新時間:2025-09-09
ma300 gen3 掩模對準器用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動化掩模對準平臺suss microtec 的 ma300 gen3 是一款高度自動化的掩模對準平臺，適用于 300 毫米和 200 毫米晶圓。它為 3d 封裝、晶圓封裝和倒裝芯片應(yīng)用而設(shè)計，但也可用于必須暴露 4 微米和 100 微米幾何形狀范圍的其他技術(shù)。
更新時間:2025-09-09
vpg 800 / vpg 1400 有掩膜光刻機為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。vpg1400是我們?yōu)轱@示行業(yè)設(shè)計的大的系統(tǒng)。它是平板顯示器 （fpd） 應(yīng)用的好的選擇，例如 tft 陣列、彩色濾光片和 ito。這些工具還用于先進封裝、半導體、led 和觸摸屏應(yīng)用的工業(yè)大面積光掩模應(yīng)用。
更新時間:2025-09-09
ap200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 veeco 的可定制 unity 平臺™構(gòu)建，可提供卓越的覆蓋層、分辨率和側(cè)壁輪廓性能，并可實現(xiàn)高度自動化和具有成本效益的制造。這些系統(tǒng)特別適用于銅柱、扇出、硅通孔 （tsv） 和硅中介層應(yīng)用。此外，該平臺還具有許多特定于應(yīng)用的產(chǎn)品功能，可實現(xiàn)下一代封裝技術(shù)，例如增強的翹曲晶圓處理、雙面對準和光學聚焦
更新時間:2025-09-09
suss microtec公司推出了其下一代投影掃描光刻機‐dsc300投影掃描光刻機。這種有的掃描光刻平臺擁有三位數(shù)的產(chǎn)能，并達到解析度（< 2 μm）的分辨率，是1x投影光刻系統(tǒng)中生產(chǎn)成本較為低的。
更新時間:2025-09-09
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