有掩膜光刻機
?1.手動、半自動、全自動有掩膜光刻機?2.高分辨率掩模對準光刻,特征尺寸優(yōu)于0.5微米?3.基片尺寸可滿足4、6、8、12英寸?4.經過特殊設計,方便處理各種非標準基片、例如混合、高頻元件和易碎的I 更多詳細無掩膜/激光直寫光刻機
TP9000多路溫度記錄儀是一款支持多種溫度傳感器(熱電偶、熱電阻)同時測試記錄,連接4G、WIFI無線模塊,實現(xiàn)數(shù)據(jù)遠傳,隨時隨地查看實時數(shù)據(jù),數(shù)據(jù)超限手機微信/短信/電話等方式及時報警 更多詳細電子束光刻系統(tǒng)
eLINE Plus -為多種原位納米加工技術的寬帶寬應用而設計,超越了典型的電子束光刻(EBL)。 更多詳細納米壓印系統(tǒng)
1.支持基底材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
2.納米壓印技術:旋涂膠基底高精度壓印&點膠自動找平壓印、旋涂膠基底壓印、點膠自動找平壓印模式
3.壓印精度:優(yōu)于10nm 更多詳細